應用領域：冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業中的各種分析。
檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。
主要技術參數：光學系統：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統；
波長范圍：170-580nm
焦距：400mm
探測器：高性能CCD陣列
光源類型：數字光源，高能預燃技術（HEPS）
放電頻率：100-1000Hz
放電電流：最大400A
工作電源：220VAC 50/60Hz
儀器尺寸：720*860*500
儀器重量：約100kg（不含真空系統）
檢測時間：依據樣品類型而定，一般25S左右
電極：鎢材噴射電極
分析間隙：真空軟件自動控制、監測
技術特點：
1、高性能光學系統
2、自動光路校準
3、單板式透鏡設計
4、真空室一體化
5、真空防返油技術
6、開放式激發臺
7、噴射電極技術
8、集成氣路模塊
9、全數字化激發光源
10、高速數據采集
11、以太數據傳輸
12、預制工作曲線
13、分析速度快捷
14、多基體分析
15、軟件多國語言
分析特征:
分析基體 Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等
光學結構 帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統
波長范圍 130-800nm（可分析N元素）
焦距 400mm
光柵刻線 3000條/mm
探測器 高性能CCD陣列,每塊CCD 3,648 像素，
CCD像素分辨率 6pm
電極 鎢材噴射電極
分析間隙 樣品臺分析間隙：4mm
光源類型 全新可調節數字化光源，高能預燃技術（HEPS）
激發頻率 100-1000Hz
最大放電電流 400A
真空系統 真空軟件自動控制、監測
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